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PECVD等离子化学气相沉积是一种常见的化学气相沉积（CVD）技术，通过在气相中引入等离子体（通常由电离的气体组成），利用其产生的活性物种在基板表面沉积薄膜或材料。在实验过程中通常
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2024-04
一氧化碳（CO）生长碳纳米管是一种常见的碳纳米材料制备方法之一，通常采用化学气相沉积（CVD）技术来实现，工作原理为：CVD炉通过加热反应室内的反应气体混合物来实现化学反应，从而沉积出碳纳米管或其他纳米材料。
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2024-04
三聚氰胺（melamine高温条件下可以分解生成氮化碳（melon），这是制备氮化碳的一种方法。高温管式炉可以用于三聚氰胺制备氧化碳的过程。在管式炉中，可以控制反应条件，使得三聚氰胺在
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2024-03
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2024-03
铬锆铜是一种特殊的合金材料，通常用于高温高压环境下的工程应用，例如航空航天领域。真空钎焊是一种常用的金属连接技术，可以在无氧或低氧环境中进行，避免氧化和其他化学反应，保证
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2024-03
烧结聚四氟乙烯（Polytetrafluoroethylene，简称PTFE）一种制备高性能聚四氟乙烯制品的工艺方法之一。工作原理为将聚四氟乙烯粉末与辅助材料按一定比例混合均匀，然后压制成原始
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2024-03
箱式马弗炉是一种常见的热处理炉，用于实验室、工业生产等场合中对样品进行加热处理。设置箱式高温马弗炉的温度需要根据具体的加热需求和样品特性来进行调节和控制。以下是设
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2024-03
真空烧结碳化硅是一种制备高性能碳化硅陶瓷材料的重要工艺之一，将成型好的原始制品置于高温真空烧结炉中进行烧结，碳源与硅源发生反应生成碳化硅，烧结过程中要控制温度、气氛、
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