产品导航

热销产品推荐PRODUCTS

1100℃真空管式炉

KJ-T1100-S200CK1W
详细
管式PECVD等离子气相沉积系统

KJ-TPECVD1100-S80CK3
详细
1200度箱式气氛炉

KJ-A1200-216L
详细
钼带加热真空热处理炉

KJ-V1400-80L
详细

当前位置:首页 > 技术资料

可旋转化学气相沉积反应设备的详细介绍

作者:科佳电炉来源：原创发表时间：2024-07-19 09:46:14

可旋转化学气相沉积反应设备是一种在化学气相沉积（CVD）工艺中使用的专用装置，主要用于制备均匀的薄膜和纳米材料。通过旋转反应腔体或基材，可以实现更均匀的气体分布和沉积效果。以下是关于可旋转气相沉积反应设备的详细介绍：

设备组成部分

①反应腔体：
通常由高纯石英或其他耐高温材料制成，具有良好的化学惰性。
②旋转装置：
包括电机、传动机构和控制系统，用于驱动反应腔体或基材旋转，确保沉积的均匀性。
③气体供应系统：
包含气体源、流量控制器和气体混合器，精确控制反应气体的流量和比例。
④加热系统：
使用电阻丝、石墨加热器或感应加热器等提供所需的热量，确保反应腔体内部达到工艺要求的温度。
⑤温控系统：
包括热电偶和PID控制器，实时监测和调节反应腔体内的温度。
⑥真空系统：
由真空泵、压力传感器和控制阀组成，维持反应腔体的真空环境。
⑦气氛控制系统：
用于调节和维持反应腔体内的气氛条件，避免不必要的杂质和氧气进入。
⑧废气处理系统：
处理和排放反应过程中产生的废气，确保环境安全和设备正常运行。

点击图片查看更多设备参数

操作原理

①预处理：
将基材放入反应腔体内，并进行清洁和表面处理。
②气体引入：
开启气体供应系统，将反应气体引入反应腔体。
③加热：
启动加热系统，逐步升温至工艺所需的反应温度。
④旋转：
启动旋转装置，使反应腔体或基材旋转，确保气体在基材表面的均匀分布。
⑤沉积：
在设定的温度和气氛条件下，反应气体发生化学反应，在基材表面形成所需的薄膜或纳米材料。
⑥冷却和卸料：
反应完成后，关闭加热系统，逐步冷却至室温，取出基材。

应用领域

①半导体制造：
用于制备高质量的半导体薄膜，如硅、氮化镓和碳化硅等。
②光学材料：
制备高透明度和高折射率的光学薄膜，用于镜片、滤光片等光学器件。
③太阳能电池：
沉积薄膜太阳能电池中的吸收层和透明导电层，提高光电转换效率。
④纳米材料：
合成碳纳米管、石墨烯等纳米材料，应用于电子、传感和能源领域。
⑤防腐涂层：
在金属表面沉积防腐蚀薄膜，提高材料的耐久性和防护性能。

旋转式CVD设备的优势

①均匀沉积：
通过旋转反应石英管，可以搅拌粉末样品，从而实现均匀的碳膜沉积。这种设计有助于提高薄膜的均匀性，特别是在需要高均匀性的应用中。
②旋转速度控制：
旋转速度可以在不同的水平上进行调节，以适应不同的工艺需求。例如，MPCVD-Powder系统设计用于在粉末Si材料上覆盖碳膜，通过旋转反应石英管实现均匀沉积。
③批量生产：
某些设备设计为通过配备滑动炉和长反应石英管来实现批量生产。这种设计使得所有样品在相同的CVD条件下连续受到CVD的作用，提高了生产效率。
④温度控制：
可旋转气相沉积反应设备通常配备有精确的温度控制系统，以确保在旋转过程中保持恒定的温度。例如，Jupiter 3120设备在CVD薄膜沉积过程中使用了往复式旋转型晶圆加热盘，极大优化了CVD薄膜的均匀性。
⑤真空系统：
许多设备配备有真空系统，以适应需要在真空条件下进行的CVD工艺。例如，MPCVD-50系统配备了真空系统，可用于真空工艺。
⑥气体控制：
设备通常配备有多路质量流量气体控制器，以精确控制反应气体的流量。这有助于实现复杂的化学反应和薄膜沉积。
⑦安全性：
在抽气过程中，如果系统突然暴露于大气，设备应能处于保护状态，避免部件损坏。例如，某些设备在停电停水或系统不能维持真空状态时，带有保护装置，整个系统连锁保护。
⑧样品进出系统：
设备通常配备有样品进出室及移动密封系统，以便于样品的装载和卸载。

通过这些设计和功能，可旋转气相沉积反应设备能够提供高效、均匀和可控的薄膜沉积过程，广泛应用于半导体制造、光学材料、太阳能电池和纳米材料的制备。其均匀性好、高效性和灵活性使其在高质量薄膜和纳米材料的制备中具有重要优势。

可点击这里查看更多PECVD设备型号和配置介绍。