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实验室真空管式炉型号及主要特点

作者:科佳电炉来源：原创发表时间：2024-05-21 17:24:36

实验室真空管式炉是一种广泛应用于材料科学、化学、物理学等领域的高温处理设备，能够在真空或特定气氛环境下进行样品加热处理。实验室真空管式炉的型号通常由制造商根据炉子的特定参数和功能来指定。这些参数可能包括最高温度、炉膛尺寸、加热区数量、控制系统的类型等。以下是一些常见型号及其特点：

一、常见的实验室真空管式炉型号（以郑州科佳电炉型号为例）：

①KJ-TG600高真空系列：
专为高真空环境设计，采用高真空分子泵组，冷态极限真空度可达6.67*10-3pa，最高工作温度为500°C，适用于高纯度材料的研究和开发。

②KJ-T1100系列：
这是一款标准的真空管式炉，工作温度为1100°C以下，配有高精度温控系统和真空泵接口，适用于一般实验室的热处理需求。

③KJ-T1400多温区系列：
高温管式炉，最高温度可达1300°C，具有多温区温控功能，适用于复杂的热处理过程。

④KJ-T1700系列：
这是一款高温真空管式炉，温度可以达到1600°C，配备了高效的真空系统和气氛控制系统，适用于材料合成和热处理。

⑤KJ-RTP系列：
适用于需要快速升温和冷却的实验，温度范围广，且具有真空和气氛控制功能。主要应用多种材料的快速退火、硅化、扩散、结晶、致密化等。

⑥KJ-CVD系列：
该系列由管式炉+真空系统+供气系统组成，最高温度可以达到1200℃，可以是单温区、双温区、三温区等，主要用于各种CVD化学气相沉积实验、碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长等。

二、真空管式炉的主要特点：

①高温能力：大多数真空管式炉的最高温度在1100°C到1800°C之间，可满足各种高温实验需求。

②真空气氛：配备真空泵和气氛控制系统，可以在真空、惰性气体或还原气氛下进行实验。

③控制系统：包括手动控制、程序控制（可编程）和计算机接口等，采用先进的温控PID模糊控制，能够提供高精度的温度控制，确保实验的可重复性。

④气体流量：如果需要进行化学气相沉积（CVD）或其他需要特定气氛的工艺，气体流量控制是一个重要参数。

⑤多区加热：一些高端型号配备多区加热功能，使得温度分布更加均匀，适用于复杂样品的热处理。

⑥安全性好：配有多重安全保护措施，如超温保护、断耦保护，声光预警等，在无人值守的条件下也能工作，确保操作安全。

实验室真空管式炉在材料制备、化学反应、热处理等方面具有重要作用，选择合适的型号和正确使用设备是确保实验成功的关键。由于实验室真空管式炉的型号和规格众多，选择时需要根据实验室的具体需求和预算来决定。