CVD技术主要使用的设备是化学气相沉积系统，该设备主要应用于各种CVD实验，也可用于真空烧结、真空气氛保护烧结、纳米材料制备、电池材料制备等多研究领域。使用该炉子做实验时，有如下特点：5vm高温箱式电阻炉,管式炉,真空退火炉,真空烧结炉,管式高温炉-郑州科佳电炉有限公司
1、设备的工艺操作都较简单、灵活性较强，能制备出配比各异的单一或复合膜层和合金膜层；5vm高温箱式电阻炉,管式炉,真空退火炉,真空烧结炉,管式高温炉-郑州科佳电炉有限公司
2、CVD法的使用性较广泛，可制备各种金属或金属膜涂层；5vm高温箱式电阻炉,管式炉,真空退火炉,真空烧结炉,管式高温炉-郑州科佳电炉有限公司
3、因沉积速率可高达每分钟几微米到数百微米，因此生产效率高；5vm高温箱式电阻炉,管式炉,真空退火炉,真空烧结炉,管式高温炉-郑州科佳电炉有限公司
4、与PVD法相比较绕射性好，非常适宜涂覆形状复杂的基本，如槽沟、涂孔甚至盲孔结构均可镀制成膜；5vm高温箱式电阻炉,管式炉,真空退火炉,真空烧结炉,管式高温炉-郑州科佳电炉有限公司
5、涂层致密性好，由于成膜过程温度较高，膜基界面上的附着力很强，故膜层十分牢固；5vm高温箱式电阻炉,管式炉,真空退火炉,真空烧结炉,管式高温炉-郑州科佳电炉有限公司
6、承受放射线辐射后的损伤较低，能与MOS集成电路工艺相融合。5vm高温箱式电阻炉,管式炉,真空退火炉,真空烧结炉,管式高温炉-郑州科佳电炉有限公司
CVD技术的不足，一是沉积温度高可达800-1100°C,在这样高的温度下工件易于变形，特别是对于那些不耐高温变化的高精度尺寸的工件，对于其用途会受到一定的限制，二是由于参与沉积的反应物质及反应后的气体大都具有易燃、易爆、有毒或是一定腐蚀性，因此必须采取一定的防护措施。5vm高温箱式电阻炉,管式炉,真空退火炉,真空烧结炉,管式高温炉-郑州科佳电炉有限公司